パルスレーザー洗浄機と連続レーザー洗浄機

パルスレーザー洗浄機と連続レーザー洗浄機は2つの一般的なレーザー洗浄装置であり、原理、適用範囲、洗浄効果、装置コスト、および操作方法にいくつかの違いがあります。以下では、これらの違いを分析し、2 つの洗浄方法を詳細に比較します。

違い1:原理の違い

パルス レーザー洗浄機: パルス レーザー洗浄機は、高エネルギーおよび高周波パルス レーザー ビームを使用して対象物の表面を瞬時に加熱および冷却し、瞬間的な温度勾配と熱応力を形成して、表面から汚染物質や薄いコーティングを剥離します。 。原理は、短時間かつ高エネルギーのレーザーパルス照射により瞬時に高温と高圧を発生させ、汚染物質を素早く蒸発または粉砕し、洗浄効果を得るというものです。

連続レーザー洗浄: 連続レーザー洗浄は、レーザー光線を連続的に放射して対象物の表面を加熱し、洗浄効果を達成するプロセスです。連続レーザーの特徴は、継続的かつ安定したエネルギー出力であり、多くの場合、物体の表面に穏やかな洗浄効果をもたらします。

違い2：適用範囲の違い

パルスレーザー洗浄機：パルスレーザー洗浄機は、自動車製造、電子機器、航空宇宙、半導体加工などのさまざまな業界で広く使用されており、塗料、酸化物、溶接スラグなどのさまざまな汚染物質を除去するために使用できます。パルスレーザー洗浄は、高エネルギーと短い動作時間の特性により、高い表面要件を持つ対象物の洗浄に適しています。

連続レーザー洗浄: 連続レーザー洗浄は、医療機器の消毒、紙の洗浄、その他の分野で特定の用途に使用されます。パルスレーザーと比較して、連続レーザーはエネルギーが低く、継続的な加熱が必要な対象物の洗浄に適しています。