パルスレーザー洗浄機と連続レーザー洗浄機２台

違い3：洗浄効果の比較

パルスレーザー洗浄機：パルスレーザー洗浄機は瞬間的に高温高圧を発生させることができ、物体の表面の汚染物質を効果的に除去し、優れた洗浄効果を発揮します。パルスレーザー洗浄機は基板への影響が比較的小さいため、さまざまな表面をより安全に洗浄できます。

連続レーザー洗浄: 連続レーザーは温度が低いため、洗浄効果が比較的弱く、壊れやすい材料や溶けやすい材料には対応できません。ただし、連続的なレーザー洗浄は、通常、比較的粗い表面の洗浄には一定の効果があります。

違い4：設備コストと運用の違い

パルス レーザー洗浄機: パルス レーザー洗浄機は、集中調達に対するダメージをゼロにすることができ、高い基板表面要件を必要とする製品の洗浄に適しているため、通常、高い設備コストが必要です。同時に、安全な操作を確保するために、オペレーターは一定の専門的な知識とスキルを持っている必要があります。

連続レーザー洗浄機: パルスレーザー洗浄機と比較して、連続レーザー洗浄機は設備コストが低く、大規模な工業用洗浄ニーズに適しています。